什么是等離子拋光?
等離子即物質的第四形態,電漿拋光廠,是一種電磁氣態放電現象,等離子就是在高溫高壓下,拋光鹽水溶,在高溫高壓下,電子會脫離原子核而跑出來,原子核就形成了一個帶正電的離子,當這些離子達到一定數量的時候可以成為等離子態,等離子態能量很大,當這些等離子和要拋光的物體摩擦時,對工件進行無死角拋光,頃刻間會使物體達到表面光亮的效果。
電漿拋光
工件在等離子拋光前必須除油,并用去污粉擦洗,中山電漿拋光,以免油污污染拋光槽液。
陰極與陽極面積比。陰極面積控制在陽極面積的1/2~1/3.5。在此情況下可以防止三價鉻的增長,電漿拋光加工廠家,過多的三價鉻在陽極表面被氧化成六價鉻。三價鉻含量過多,易使拋光液老化
等離子拋光加工技術,作為金屬表面處理領域的一股革新力量,正著行業的新潮流。該技術利用高能等離子體束與工件表面相互作用產生的物理和化學效應,等離子電漿拋光,實現微米級至納米級的超精密平滑處理。相比傳統機械拋光或化學蝕刻方法,等離子拋光具有非接觸、無磨損工具消耗的優勢,能夠顯著減少材料損失并提升加工精度和效率。它不僅能夠去除金屬表面的微小瑕疵及氧化層,還能在微觀尺度下調整表面粗糙度和結構特性,增強材料的耐腐蝕性能和使用壽命。此外,該技術在環保方面也表現出色,減少了有害廢液排放和處理成本,符合綠色制造的發展趨勢。隨著航空航天、以及電子等領域對零部件表面光滑度和性能要求的不斷提升,等離子拋光技術憑借其的優勢逐漸成為這些行業的工藝之一。未來,隨技術的不斷成熟與應用拓展,其將在更多領域內展現出強大的生命力和廣闊的市場前景。
等離子拋光的三個主要優點是成本更低,該過程更環保,并且具有該技術獨有的表面下損傷去除效果。等離子拋光晶圓與CMP晶圓比較而言,一直到二極管和MOSFET器件生成,完整的晶圓電氣性能和良率結果已經與CMP相當(圖1)。
等離子拋光劑不使用消耗性有毒漿料,因此避免了相關的處置問題和高用水量,消除這些工藝要求可以將運營成本降低多達85%。此外,該步驟上游的材料要求不需要改變,之后的工藝也看不到等離子拋光晶圓和CMP晶圓之間的差異。
電漿拋光
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